Источники питания для электронно-лучевого процесса
Электронно-лучевой метод
Реализуем любые требования заказчика к конструкции и характеристикам - наш девиз: индивидуальный подход к клиенту
Что касается электронно-лучевого процесса для электронно-лучевой сварки, нанесения покрытий, упрочнения или сверления, источники питания FuG используются в широком диапазоне. Индивидуальные многоканальные источники питания или одноканальные источники оснащены сложной электроникой для контроля и управления питанием, а также вспомогательными источниками питания на основе изолированного высокого напряжения. Это гарантирует надежные и стабильные производственные результаты высокого качества.
Применение
Электронно-лучевой процесс:
Электронно-лучевая сварка/сверление:
Для генерации пучка электронов высокой энергии используется мощный источник высокого напряжения в сочетании с несколькими дополнительными источниками питания (Цилиндр Венельта, нагревательный, фокусирующий элемент и другие). 50кВ - 200кВ, 20кВт - 200кВт, со вспомогательными источниками питания.